바닥 리프트로는 고온 처리 과정에 사용되는 산업용 장비로, 일반적으로 금속 공학, 유리 제조, 세라믹 생산 등에서 사용됩니다. 주요 특징은 리프팅 장치를 통해 로의 바닥 높이를 조정할 수 있어, 재료가 로 내부에서 접촉하는 시간과 온도를 제어할 수 있다는 점입니다. 일반적으로 400°C에서 1700°C 범위의 온도에서 작동하며, 이 장비의 기본 구조는 로 본체, 가열 장치, 바닥 리프팅 메커니즘으로 구성됩니다. 가열은 저항 가열을 통해 이루어지며, 구체적인 재료 선택은 공정 요구 사항과 재료 특성에 따라 달라집니다. 바닥 리프트로의 설계는 공정의 유연성과 효율성을 향상시키며, 필요에 따라 로의 부피와 재료 처리 시간을 조정할 수 있게 해줍니다.

주요 구성 요소:

• 로 본체(챔버): 로 본체는 바닥 리프트로의 주요 부분으로, 재료를 담고 가열 공간을 제공합니다. 일반적으로 고온과 화학적 부식에 견디는 세라믹 섬유 재료(판, 담요 등)로 제작됩니다. 세라믹 섬유 재료 외에도 바닥 플랫폼에는 내마모성이 우수한 홀로우 구슬 벽돌을 사용하여 장기적인 품질 안정을 보장합니다.

• 가열 요소: 가열 요소는 로 내부에서 재료를 원하는 목표 온도로 가열하기 위해 열 에너지를 제공합니다. 일반적으로 1200°C에서 1700°C 범위의 온도에서 작동하며, 저항선(벨트), 실리콘 카바이드 막대 또는 실리콘 몰리브덴 막대가 사용됩니다.

• 바닥 리프팅 메커니즘: 바닥 리프팅 메커니즘은 바닥 리프트로에서 핵심 구성 요소 중 하나로, 로 바닥의 높이를 조정하여 재료와 열원 사이의 거리를 제어하고, 이로 인해 재료의 가열 시간과 온도를 조정합니다. 리프팅 메커니즘은 일반적으로 유압 시스템과 나사로 구성됩니다. 바닥 플랫폼은 사다리 형 구조를 채택하여, 로 챔버와 일체형이 되어 에너지를 절약하고, 단열 성능을 개선하며, 열 손실을 줄이고 밀봉 효과를 향상시킵니다.

• 제어 시스템: 제어 시스템은 바닥 리프트로의 작동을 모니터링하고 제어합니다. 온도, 압력 및 리프팅 속도 등의 매개변수를 제어합니다. 온도 제어는 일반적으로 온도 조절기를 사용하고, 리프팅 운동은 변속기(주파수 변환)로 제어됩니다. 대형 리프트로는 터치스크린 제어 시스템을 갖추어 생산성과 제어 효율성을 향상시킵니다.

옵션 기능:

• 맞춤형 제어 모드: 제어 모드는 전통적인 국내 PID 제어에서부터 수입된 장비나 PLC 제어까지 맞춤화할 수 있으며, 다양한 옵션을 제공하여 고객의 선호에 맞출 수 있습니다.

• 플랫폼 입출구: 플랫폼 입출구는 자동 이동으로 맞춤화할 수 있으며, 최대 두 개의 플랫폼을 제공하여 한쪽에서 재료를 실고 내리는 작업을 하면서 동시에 소성할 수 있습니다.

• 다각형 가열: 로의 크기에 따라, 로 온도의 균일성을 최대한 보장하는 것 외에도, 다각형 가열 옵션을 추가하여 로 온도 균일성 요구 사항이 높은 경우 대응할 수 있습니다.

• 다중 온도 제어: 다양한 사용 시나리오에 따라 고객은 다각형 가열을 선택하여 열 복사 효율을 개선하고, 로의 온도 범위를 확장할 수 있습니다.

• 배기구 및 가스 경로: 고객 요구에 따라 배기구, 가스 경로, 유량계를 추가하여 공정 요구 사항을 충족할 수 있습니다(진공 밀봉 구조는 아님).

• 터치스크린 제어: Y&H는 시장에서 인기 있는 산업용 터치스크린 인터페이스를 기반으로 터치스크린 제어 시스템을 제작할 수 있습니다. 이를 통해 실시간 관찰, 보고서 생성 및 데이터 다운로드가 가능합니다.

표준 사양